Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes / Nejlevnější knihy
Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Kód: 48234675

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Autor Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for i ... celý popis

1740 Kč


Skladem u dodavatele
Odesíláme za 14-21 dnů
Přidat mezi přání

Mohlo by se vám také líbit

Darujte tuto knihu ještě dnes
  1. Objednejte knihu a zvolte Zaslat jako dárek.
  2. Obratem obdržíte darovací poukaz na knihu, který můžete ihned předat obdarovanému.
  3. Knihu zašleme na adresu obdarovaného, o nic se nestaráte.

Více informací

Více informací o knize Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Nákupem získáte 174 bodů

Anotace knihy

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Parametry knihy

1740 Kč

Oblíbené z jiného soudku

O tomto obchodě



Nákupní rádce
Přehledy
Knihy podle jazyka
Platba
Doručení 54 Kč

Osobní odběr Praha, Brno a 46945 dalších

Česko
България Hrvatska România Magyarország Polska Slovensko

Copyright ©2008-26 nejlevnejsi-knihy.cz Všechna práva vyhrazenaSoukromíCookies

Můj účet: Přihlásit se
Všechny knihy světa na jednom místě. Navíc za skvělé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Vyzvednutí v Balikovně a PPL
boxech zdarma nad 1 499 Kč.

Nacházíte se: