Mohlo by se vám také líbit

Více informací o knize Chemical Vapor Deposition

• Parametry knihy
• Anotace
• Oblíbené z jiného soudku

Nákupem získáte 420 bodů

Anotace knihy

This timely reference provides an integrated, ultidisciplinary approach to CVD on a relatively fundamental level, enabling researchers with a basic background in any engineering field to readily understand and apply CVD techniques. At the same time, it becomes the first work to address CVD from the perspective of the properties of thin films and show how to achieve these properties by understanding and modifying deposition conditions.

Parametry knihy

Zařazení knihy Knihy v angličtině Technology, engineering, agriculture Electronics & communications engineering Electronics engineering

• Plný název: Chemical Vapor Deposition
• Podnázev: Thermal and Plasma Deposition of Electronic Materials
• Autor: Srinivasan Sivaram
• Jazyk: Angličtina
• Vazba: Brožovaná
• Počet stran: 292
• EAN: 9781475747539
• ISBN: 1475747535
• ID: 02254097
• Nakladatelství: Springer-Verlag New York Inc.
• Hmotnost: 474 g
• Rozměry: 235 × 155 × 17 mm
• Datum vydání: 22. June 2013

Oblíbené z jiného soudku

---

---

---