Mohlo by se vám také líbit

Více informací o knize Atomic Layer Deposition

• Parametry knihy
• Anotace
• Oblíbené z jiného soudku

Nákupem získáte 497 bodů

Anotace knihy

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

Parametry knihy

Zařazení knihy Knihy v angličtině Technology, engineering, agriculture Electronics & communications engineering Electronics engineering

• Plný název: Atomic Layer Deposition
• Podnázev: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
• Autor: Tommi Kaariainen, David Cameron, Marja-Leena Kaariainen, Arthur Sherman
• Jazyk: Angličtina
• Vazba: Pevná
• Počet stran: 272
• EAN: 9781118062777
• ISBN: 1118062779
• ID: 04949772
• Nakladatelství: John Wiley & Sons Inc
• Hmotnost: 582 g
• Rozměry: 164 × 240 × 25 mm
• Datum vydání: 28. June 2013

Oblíbené z jiného soudku

---

---

---