Mohlo by se vám také líbit

Více informací o knize Plasma Etching

• Parametry knihy
• Anotace
• Oblíbené z jiného soudku

Nákupem získáte 713 bodů

Anotace knihy

The focus of this book is on the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

Parametry knihy

Zařazení knihy Knihy v angličtině Mathematics & science Physics Materials / States of matter

• Plný název: Plasma Etching
• Podnázev: Fundamentals and Applications
• Autor: Minoru Sugawara
• Jazyk: Angličtina
• Vazba: Pevná
• Počet stran: 356
• EAN: 9780198562870
• ISBN: 019856287X
• ID: 04527765
• Nakladatelství: Oxford University Press
• Hmotnost: 743 g
• Rozměry: 242 × 163 × 23 mm
• Datum vydání: 28. May 1998

Oblíbené z jiného soudku

---

---

---