Mohlo by se vám také líbit

Informovat o naskladnění knihy

Více informací o knize Photomask and Next-generation Lithography Mask Technology IX (Proceedings of SPIE)

• Parametry knihy
• Anotace
• Oblíbené z jiného soudku

Anotace knihy

This text examines photomask and next-generation lithography mask technology.

Parametry knihy

Zařazení knihy Knihy v angličtině Technology, engineering, agriculture Electronics & communications engineering Electronics engineering

• Plný název: Photomask and Next-generation Lithography Mask Technology IX (Proceedings of SPIE)
• Autor: Hiroichi Kawahira
• Jazyk: Angličtina
• Vazba: Brožovaná
• Počet stran: 112
• EAN: 9780819445179
• ISBN: 9780819445179
• ID: 06363803
• Nakladatelství: SPIE Press
• Datum vydání: 31. July 2002

---

---

---