Numerical Modeling Tools for Chemical Vapor Deposition / Nejlevnější knihy
Numerical Modeling Tools for Chemical Vapor Deposition

Kód: 23917018

Numerical Modeling Tools for Chemical Vapor Deposition

Autor National Aeronautics and Space Adm Nasa

Development of general numerical simulation tools for chemical vapor deposition (CVD) was the objective of this study. Physical models of important CVD phenomena were developed and implemented into the commercial computational flu ... celý popis

407


Skladem v malém množství
Odesíláme do 24 hodin

Potřebujete více kusů?Máte-li zájem o více kusů, prověřte, prosím, nejprve dostupnost titulu na naši zákaznické podpoře.


Přidat mezi přání

Mohlo by se vám také líbit

Dárkový poukaz: Radost zaručena

Objednat dárkový poukazVíce informací

Více informací o knize Numerical Modeling Tools for Chemical Vapor Deposition

Anotace knihy

Development of general numerical simulation tools for chemical vapor deposition (CVD) was the objective of this study. Physical models of important CVD phenomena were developed and implemented into the commercial computational fluid dynamics software FLUEN

Parametry knihy

407

Oblíbené z jiného soudku



Osobní odběr Praha, Brno a 12903 dalších

Copyright ©2008-24 nejlevnejsi-knihy.cz Všechna práva vyhrazenaSoukromíCookies


Můj účet: Přihlásit se
Všechny knihy světa na jednom místě. Navíc za skvělé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Vyzvednutí v Zásilkovně
zdarma nad 1 499 Kč.

Nacházíte se: