Mohlo by se vám také líbit

Více informací o knize Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

• Parametry knihy
• Anotace
• Oblíbené z jiného soudku

Nákupem získáte 580 bodů

Anotace knihy

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Parametry knihy

• Plný název: Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
• Autor: Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)
• Jazyk: Angličtina
• Vazba: Pevná
• Počet stran: 496
• EAN: 9781032386706
• ID: 43909170
• Nakladatelství: Taylor & Francis Ltd
• Hmotnost: 662 g
• Rozměry: 234 × 156 mm
• Datum vydání: 07. December 2023

Oblíbené z jiného soudku

---

---

---