EUV Sources for Lithography / Nejlevnější knihy
EUV Sources for Lithography

Kód: 06329333

EUV Sources for Lithography

Autor Vivek Bakshi

An authoritative reference book on EUV source technology. Topics range from an overview of EUV source requirements, to fundamental atomic data and theoretical models of EUV sources based on discharge-produced plasmas (DPP) and las ... celý popis

4598

Dostupnost:

50 % šanceMáme informaci, že by titul mohl být dostupný. Na základě vaší objednávky se ho pokusíme do 6 týdnů zajistit.
Prohledáme celý svět

Informovat o naskladnění

Přidat mezi přání

Mohlo by se vám také líbit

Dárkový poukaz: Radost zaručena

Objednat dárkový poukazVíce informací

Informovat o naskladnění knihy

Informovat o naskladnění knihy


Souhlas - Souhlasím se zasíláním obchodních sdělení a zpracováním osobních údajů k obchodním sdělením.

Zašleme vám zprávu jakmile knihu naskladníme

Zadejte do formuláře e-mailovou adresu a jakmile knihu naskladníme, zašleme vám o tom zprávu. Pohlídáme vše za vás.

Více informací o knize EUV Sources for Lithography

Nákupem získáte 460 bodů

Anotace knihy

An authoritative reference book on EUV source technology. Topics range from an overview of EUV source requirements, to fundamental atomic data and theoretical models of EUV sources based on discharge-produced plasmas (DPP) and laser-produced plasmas, to a description of DPP and LPP designs and other technologies for producing EUV radiation.

Parametry knihy

Zařazení knihy Knihy v angličtině Technology, engineering, agriculture Industrial chemistry & manufacturing technologies Other manufacturing technologies

4598



Osobní odběr Praha, Brno a 46927 dalších

Copyright ©2008-26 nejlevnejsi-knihy.cz Všechna práva vyhrazenaSoukromíCookies


Můj účet: Přihlásit se
Všechny knihy světa na jednom místě. Navíc za skvělé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Vyzvednutí v Balikovně a PPL
boxech
zdarma nad 1 499 Kč.

Nacházíte se: