Kód: 06439295
Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the proc ... celý popis
3116 Kč
Dostupnost:
50 % šanceMáme informaci, že by titul mohl být dostupný. Na základě vaší objednávky se ho pokusíme do 6 týdnů zajistit.Zadejte do formuláře e-mailovou adresu a jakmile knihu naskladníme, zašleme vám o tom zprávu. Pohlídáme vše za vás.
Nákupem získáte 312 bodů
Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials.
Zařazení knihy Knihy v angličtině Technology, engineering, agriculture Mechanical engineering & materials Materials science
3116 Kč
Osobní odběr Praha, Brno a 12903 dalších
Copyright ©2008-24 nejlevnejsi-knihy.cz Všechna práva vyhrazenaSoukromíCookies
Nákupní košík ( prázdný )