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Le rendement consommation/fréquence des futures générations de circuits intégrés sur silicium n'est pas satisfaisant ŕ cause de la faible mobilité électronique et des relativement grandes tensions d'alimentation VDD requises. Ce t ... celý popis
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Le rendement consommation/fréquence des futures générations de circuits intégrés sur silicium n'est pas satisfaisant ŕ cause de la faible mobilité électronique et des relativement grandes tensions d'alimentation VDD requises. Ce travail se propose d'explorer numériquement les potentialités des transistors ŕ effet de champ (FET) ŕ base de matériaux III-V pour un fonctionnement en haute fréquence et une ultra basse consommation.Tout d'abord, l'étude consiste ŕ analyser théoriquement le fonctionnement d'une capacité MOS III-V en résolvant de façon auto-cohérente les équations de Poisson et Schrödinger (PS). On peut ainsi comprendre comment et pourquoi les effets extrinsčques comme les états de pičges ŕ l'interface high-k/III-V dégradent les caractéristiques intrinsčques. Nous avons ensuite étudié plus en détails les performances des MOSFET III-V en régimes statiques et dynamiques sous faible VDD, ŕ l'aide du simulateur particulaire MONACO de type Monte Carlo. Les caractéristiques de quatre topologies de MOSFET ont été quantitativement étudiées en termes de rendement fréquence/consommation et de bruit. Nous en tirons des conclusions sur l'optimisation de ces dispositifs.
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