LPCVD Silicon Nitride and Oxynitride Films / Nejlevnější knihy
LPCVD Silicon Nitride and Oxynitride Films

Kód: 06622731

LPCVD Silicon Nitride and Oxynitride Films

Autor F. H. P. M. Habraken

Based on work done in an ESPRIT project, this study provides a broad overview of the chemical and physical characteristics of silicon oxynitrides. Emphasis is placed on the manner in which these properties influence the electrical ... celý popis

1681


Skladem u dodavatele v malém množství
Odesíláme za 10-15 dnů

Potřebujete více kusů?Máte-li zájem o více kusů, prověřte, prosím, nejprve dostupnost titulu na naši zákaznické podpoře.


Přidat mezi přání

Mohlo by se vám také líbit

Darujte tuto knihu ještě dnes
  1. Objednejte knihu a zvolte Zaslat jako dárek.
  2. Obratem obdržíte darovací poukaz na knihu, který můžete ihned předat obdarovanému.
  3. Knihu zašleme na adresu obdarovaného, o nic se nestaráte.

Více informací

Více informací o knize LPCVD Silicon Nitride and Oxynitride Films

Nákupem získáte 168 bodů

Anotace knihy

Based on work done in an ESPRIT project, this study provides a broad overview of the chemical and physical characteristics of silicon oxynitrides. Emphasis is placed on the manner in which these properties influence the electrical characteristics and behaviour of oxynitrides.

Parametry knihy

Zařazení knihy Knihy v angličtině Technology, engineering, agriculture Electronics & communications engineering Electronics engineering

1681

Oblíbené z jiného soudku



Osobní odběr Praha, Brno a 12903 dalších

Copyright ©2008-24 nejlevnejsi-knihy.cz Všechna práva vyhrazenaSoukromíCookies


Můj účet: Přihlásit se
Všechny knihy světa na jednom místě. Navíc za skvělé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Vyzvednutí v Zásilkovně
zdarma nad 1 499 Kč.

Nacházíte se: