Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets / Nejlevnější knihy
Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets

Kód: 20934534

Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets

Autor MAR PAMPILL N ARCE

This thesis describes the fabrication of metal-insulator-semiconductor (MIS) structures using very high permittivity dielectrics (based on rare earths) grown by high-pressure sputtering from metallic targets.

3313


Skladem u dodavatele v malém množství
Odesíláme za 12-15 dnů

Potřebujete více kusů?Máte-li zájem o více kusů, prověřte, prosím, nejprve dostupnost titulu na naši zákaznické podpoře.


Přidat mezi přání

Mohlo by se vám také líbit

Dárkový poukaz: Radost zaručena

Objednat dárkový poukazVíce informací

Více informací o knize Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets

Nákupem získáte 331 bodů

Anotace knihy

This thesis describes the fabrication of metal-insulator-semiconductor (MIS) structures using very high permittivity dielectrics (based on rare earths) grown by high-pressure sputtering from metallic targets.

Parametry knihy

3313

Oblíbené z jiného soudku



Osobní odběr Praha, Brno a 12903 dalších

Copyright ©2008-24 nejlevnejsi-knihy.cz Všechna práva vyhrazenaSoukromíCookies


Můj účet: Přihlásit se
Všechny knihy světa na jednom místě. Navíc za skvělé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Vyzvednutí v Zásilkovně
zdarma nad 1 499 Kč.

Nacházíte se: