Film Deposition by Plasma Techniques / Nejlevnější knihy
Film Deposition by Plasma Techniques

Kód: 06987484

Film Deposition by Plasma Techniques

Autor Mitsuharu Konuma

Properties of thin films depend strongly upon the deposition technique and conditions chosen. In order to achieve the desired film, optimum deposition conditions have to be found by carrying out experiments in a trial-and error fa ... celý popis

1681


Skladem u dodavatele v malém množství
Odesíláme za 12-15 dnů

Potřebujete více kusů?Máte-li zájem o více kusů, prověřte, prosím, nejprve dostupnost titulu na naši zákaznické podpoře.


Přidat mezi přání

Mohlo by se vám také líbit

Darujte tuto knihu ještě dnes
  1. Objednejte knihu a zvolte Zaslat jako dárek.
  2. Obratem obdržíte darovací poukaz na knihu, který můžete ihned předat obdarovanému.
  3. Knihu zašleme na adresu obdarovaného, o nic se nestaráte.

Více informací

Více informací o knize Film Deposition by Plasma Techniques

Nákupem získáte 168 bodů

Anotace knihy

Properties of thin films depend strongly upon the deposition technique and conditions chosen. In order to achieve the desired film, optimum deposition conditions have to be found by carrying out experiments in a trial-and error fashion with varying parameters. The data obtained on one growth apparatus are often not transferable to another. This is especially true for film deposition processes using a cold plasma because of our poor under standing of the mechanisms. Relatively precise studies have been carried out on the role that physical effects play in film formation such as sputter deposition. However, there are many open questions regarding processes that involve chemical reactions, for example, reactive sputter deposition or plasma enhanced chemical vapor deposition. Much further research is re quired in order to understand the fundamental deposition processes. A sys tematic collection of basic data, some of which may be readily available in other branches of science, for example, reaction cross sections for gases with energetic electrons, is also required. The need for pfasma deposition techniques is felt strongly in industrial applications because these techniques are superior to traditional thin-film deposition techniques in many ways. In fact, plasma deposition techniques have developed rapidly in the semiconductor and electronics industries. Fields of possible application are still expanding. A reliable plasma reactor with an adequate in situ system for monitoring the deposition conditions and film properties must be developed to improve reproducibility and pro ductivity at the industrial level.

Parametry knihy

Zařazení knihy Knihy v angličtině Technology, engineering, agriculture Technology: general issues Engineering: general

1681

Oblíbené z jiného soudku



Osobní odběr Praha, Brno a 12903 dalších

Copyright ©2008-24 nejlevnejsi-knihy.cz Všechna práva vyhrazenaSoukromíCookies


Můj účet: Přihlásit se
Všechny knihy světa na jednom místě. Navíc za skvělé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Vyzvednutí v Zásilkovně
zdarma nad 1 499 Kč.

Nacházíte se: