Chemical Vapor Deposition of Thin Films for Diffusion Barrier Applications / Nejlevnější knihy
Chemical Vapor Deposition of Thin Films for Diffusion Barrier Applications

Kód: 22569103

Chemical Vapor Deposition of Thin Films for Diffusion Barrier Applications

Autor OMAR BCHIR

Abstract: PhD Dissertation: MOCVD of WNx Dissertation Discovery Company and University of Florida are dedicated to making scholarly works more discoverable and accessible throughout the world. This dissertation, "Chemical Vapor De ... celý popis

1869 Kč


Skladem u dodavatele
Odesíláme za 14-18 dnů
Přidat mezi přání

Mohlo by se vám také líbit

Darujte tuto knihu ještě dnes
  1. Objednejte knihu a zvolte Zaslat jako dárek.
  2. Obratem obdržíte darovací poukaz na knihu, který můžete ihned předat obdarovanému.
  3. Knihu zašleme na adresu obdarovaného, o nic se nestaráte.

Více informací

Více informací o knize Chemical Vapor Deposition of Thin Films for Diffusion Barrier Applications

Nákupem získáte 187 bodů

Anotace knihy

Abstract: PhD Dissertation: MOCVD of WNx Dissertation Discovery Company and University of Florida are dedicated to making scholarly works more discoverable and accessible throughout the world. This dissertation, "Chemical Vapor Deposition of Thin F

Parametry knihy

1869 Kč

Oblíbené z jiného soudku

O tomto obchodě



Nákupní rádce
Přehledy
Knihy podle jazyka
Platba
Doručení 54 Kč

Osobní odběr Praha, Brno a 12903 dalších

Česko
България Hrvatska România Magyarország Polska Slovensko

Copyright ©2008-24 nejlevnejsi-knihy.cz Všechna práva vyhrazenaSoukromíCookies

Můj účet: Přihlásit se
Všechny knihy světa na jednom místě. Navíc za skvělé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Vyzvednutí v Zásilkovně
zdarma nad 1 499 Kč.

Nacházíte se: