Rapid Thermal and Integrated Processing IV: Volume 470 / Nejlevnější knihy
Rapid Thermal and Integrated Processing IV: Volume 470

Kód: 02060125

Rapid Thermal and Integrated Processing IV: Volume 470

Autor J. C. GelptyT. J. RileyF. RoozeboomS. Saito

The MRS proceedings series on rapid thermal processing (RTP) has become the predominant international forum for research in this exciting and fast-growing field. In particular, this book in the series clearly indicates that the sc ... celý popis

666


Očekávaný dotisk
Termín neznámý

Informovat o naskladnění

Přidat mezi přání

Mohlo by se vám také líbit

Darujte tuto knihu ještě dnes
  1. Objednejte knihu a zvolte Zaslat jako dárek.
  2. Obratem obdržíte darovací poukaz na knihu, který můžete ihned předat obdarovanému.
  3. Knihu zašleme na adresu obdarovaného, o nic se nestaráte.

Více informací

Informovat o naskladnění knihy

Informovat o naskladnění knihy


Souhlas - Souhlasím se zasíláním obchodních sdělení a zpracováním osobních údajů k obchodním sdělením.

Zašleme vám zprávu jakmile knihu naskladníme

Zadejte do formuláře e-mailovou adresu a jakmile knihu naskladníme, zašleme vám o tom zprávu. Pohlídáme vše za vás.

Více informací o knize Rapid Thermal and Integrated Processing IV: Volume 470

Nákupem získáte 67 bodů

Anotace knihy

The MRS proceedings series on rapid thermal processing (RTP) has become the predominant international forum for research in this exciting and fast-growing field. In particular, this book in the series clearly indicates that the science of RTP is increasingly better understood and that equipment simulation and engineering have matured. With the so-called 'second generation' equipment vendors are providing useful and production-worthy solutions to the most pertinent problems within RTP - temperature measurement and reproducability. For that reason, the issues of temperature calibration and metrology, along with the International Temperature Scale, are featured. The evaluation and modelling of furnace, mini-bath and single-wafer RTP furnaces as the thermal method of choice are also addressed. Interesting developments are reported in the processing of dielectrics. Applications outside the field of silicon semiconductors are also presented. Topics include: measurement; RTCVD; modelling and manufacturing; integrated processing; silicides; annealing and defects; dielectrics; and RTP of III-V materials and other novel applications.

Parametry knihy

Zařazení knihy Knihy v angličtině Technology, engineering, agriculture Mechanical engineering & materials Materials science

666

Oblíbené z jiného soudku



Osobní odběr Praha, Brno a 12903 dalších

Copyright ©2008-24 nejlevnejsi-knihy.cz Všechna práva vyhrazenaSoukromíCookies


Můj účet: Přihlásit se
Všechny knihy světa na jednom místě. Navíc za skvělé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Vyzvednutí v Zásilkovně
zdarma nad 1 499 Kč.

Nacházíte se: